用于硅太陽能電池的激光橢偏儀 緊湊型創新設備，旨在測量沉積在紋理硅（單硅和多硅）襯底上的抗反射涂層的厚度和光學常數。可以輕松實現優化的入射角（12-90°），以獲得沉積在多晶結構晶圓上的薄膜的大信號。金字塔結構可以定向以獲得正確的測量值，同時將樣品牢固地保持在適當的位置。

• 確定減反射涂層的薄膜厚度和光學常數（折射率和消光系數）
• 用于穩定性和自動校準的集成光學元件
• 微點聚焦光學元件，用于良好信號收集。
• 特別改裝的樣品架，適用于 156×156 mm 的樣品池尺寸。
• 在線集成，實現快速過程控制。
• 符合智能軟件標準。
• 樣品對準：用于手動傾斜和高度調整的大信號檢測。

• 測量波長：632.8 nm（氦-Ne激光）
• 樣品臺：兼容 156 × 156 mm
• 測角儀：55° - 90° 手動控制